PROPIEDADES FOTORRESISTIVAS DEL OXIDO DE NIQUEL(NiO) PREPARADO POR DIFERENTES METODOS

Abstract

En el presente trabajo de tesis, se analizó la respuesta del óxido de níquel (NiO) comercial y el obtenido mediante síntesis por coprecipitación y síntesis en solución acuosa, ante radiación electromagnética de diferentes longitudes de onda, particularmente en la región ultravioleta (UV), visible e infrarrojo (IR). Esto se efectuó estudiando la variación en la resistencia eléctrica del NiO para su posible aplicación en fotodetección y fotocatálisis. Se realizó la caracterización del material mediante difracción de rayos X (DRX) y se observó la morfología del mismo por medio de microscopia electrónica de barrido (SEM por sus siglas en ingles). Se realizó la comparativa del comportamiento fotoresistivo entre el óxido de níquel comercial y la muestra de óxido de níquel que presentó mejor caracterización, pureza y morfología. Por otro lado se realizó la medición de la banda de energía prohibida (llamada bandgap) experimentalmente y de la capacidad de respuesta de este material particularmente en la zona UV.